科技 · 半导体设备及材料
Grand Process Technology Corporation
3131TWSENT$2,010.00−NT$70.00 (−3.37%)已收盘
股价图表
日线
关键指标
- 市值
- NT$58.21B
- 市盈率
- 44.2x
- 市净率
- 12.38x
- 净资产收益率
- 28.6%
Grand Process Technology Corporation
科技 · 半导体设备及材料 · 财年 2025
Grand Process Technology Corporation 是一家专注于半导体湿法处理设备的领先制造商。公司成立于 1993 年，总部位于 Taiwan 的 Hsinchu City，设计、生产并销售关键设备，如 single wafer spin processors、batch type wet bench systems 以及支持 IC packaging、front-end semiconductor fabrication 和 optoelectronic applications 的 advanced combo systems。其核心客户群包括半导体
- CEO
- Mr. Hongtai Zhang
- 员工人数
- 0
公司统计
估值
市盈率
44.2x
市净率
12.38x
P/S
9.01x
企业价值/EBITDA
31.8x
市价/自由现金流
35.1x
利润率
毛利率
41.2%
EBITDA 利润率
28.6%
营业利润率
25.2%
税前利润率
25.9%
净利率
20.3%
回报率
总资产回报率
11.4%
净资产收益率
28.6%
投入资本回报率
14.8%
增长率 (CAGR)
营收 3 年
20.5%
营收 5 年
21.2%
营业利润 3 年
29.1%
净利润 3 年
22.2%
财务健康
现金及现金等价物
NT$2.54B
净负债
NT$5.63B
负债权益比
171.3%
利息保障倍数
—
概况
营业收入
NT$6.51B
流通股数
—